森川 靖，井上敞雄，佐々木恵彦
Shorea taluraのメバエを約100日間，29klux，13.5klux， 2.7klux，0.7kluxの光条件で育てた。節間は弱光処理ほど長く，マレーシア現地での調査結果と一致 した。二次葉の単位面積あたりの重さは弱光処理ほど小さくなった。みかけの光合成における光補償 点は弱光処理苗ほど低かった。弱光処理苗では，弱光域で光合成能率のたかい陰葉型の光−光合成曲 線をえた。こうした陰葉型の光合成特性は温帯林樹木のそれとおおきなちがいがなかったが，光飽和 照度が著しく高かった。このことShorea taluraの光合成における強光への適応が陰葉化した 葉でも消失しないと考えた。
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